Az alkalmazása során vékony fém filmek fontos része a félvezető és a mágnesesség iparban. A két fő típusa a feldolgozás magában foglalja a növekedés fémes filmek és a rézkarc fémes filmek . Magában foglalja a növekedési lerakódása fémes anyagot olyan módszerrel , mint például elpárologtatással vagy porlasztással. A maratási folyamat az ellenkezője , és magában foglalja a szelektív eltávolítása anyagot kitettség egy bizonyos kémiai vagy bombázzák az anyagot ionizált gáz molekulákkal. Rézkarc
maratás az anyag szelektív eltávolítására . Két fő módja, hogy etch anyagot. Egy kémiai maratási gyakran használják , hogy szelektíven egy bizonyos anyag eltávolítására , miközben más területein a minta ép. Ennek egyik példája a hidrogén-fluorid alkalmazásának , hogy szelektíven eltávolítani a szilícium -dioxid. Egy másik módja annak, hogy etch , hogy helyezze a mintát egy vákuum kamrába , majd be egy gáz, például argon . Az ezután argongáz ionizált egy sor ellen elektródák és felgyorsította a mintában. Az ionok bombázzák a mintát, és távolítsa el anyagot. Mivel minden része a minta bombázzák , ez nem egy szelektív etch , és az összes kitett felületek lesz anyagot eltávolították .
Csökkentése Metal Vastagság
kitett bármelyik fém minta egy maratási csökkenti a minta vastagságát. Ez gyakran a kívánt eredményt az etch . Annak érdekében , hogy távolítsa el egy bizonyos mennyiségű anyag, a fém kell kitéve a etch egy meghatározott ideig , például egy percig. A vastagsága ezután kell mérni annak érdekében, hogy a maratási sebességet , mint a 10 nanométer másodpercenként .
Film érdesség
Bár a céllal, hogy egy etch , hogy csökkentse a fém vastagsága , ez általában ára van . A fémes fólia érdesség lehet egy nagyon fontos és általában mennyiséget mérjük egy eszközt, melyet egy atomerő mikroszkóp . Általában minél hosszabb egy anyag vésett , annál nagyobb a fémes film érdesség válik .
Szemcseméret
Metallic filmek állnak sok millió apró szemcsék , amelyek jellemzően a méret tartomány 5 és 100 nanométer . Mivel a fém maratott filmek , az átlagos méret a szemcseméret csökkenteni lehet , de ez erősen függ a etch típusától , az idő és a maratási etch erőt, ha ez egy ion etch .
